HENGKO High Purity Porous Metal Chamber Diffusers Stone pou filtraj gaz pite segondè nan semi-conducteurs

Deskripsyon kout:

Mak:HENGKO

MOQ:100 PCS

Peman:T/T

Tan plon:Pwosesis pwodiksyon an pran 25-35 jou, tanpri tann pasyans, oswa konfime dat livrezon an ak vandè nou an

Sètifikasyon:FDA, RoHS, ISO9001...

OEM/ODM:Disponib

Voye imèl ba nou Retounen nan Sou-kategori yo

Pwodwi detay

Tags pwodwi

hengko avantaj HENGKO Porous Metal Diffusers byen vit vantilasyon chanm vakyòm nan atmosfè a ki diminye tan sik ak ogmante debi.Difizeur asye pur nou yo bay koule gaz inifòm ak laminè san yo pa deranje patikil nan chanm lan.Sa yo difize metal pore tou retire patikil ki pi gran pase 0.1 µm nan gaz k ap rantre, minimize domaj sou wafer la.
Difizeur asye pur ka kenbe tèt ak pi wo presyon opere epi kenbe entegrite pwodwi - lavi ki pi long nan endistri a.Epi, pou rezistans korozyon ki siperyè nikèl, sèvi ak HENGKO High Purity Diffusers.

Aplikasyon
HENGKO Porous Metal Diffusers yo itilize nan aplikasyon pou vantilasyon sou chanm fèmen chaj, chanm transfè, chanm refwadisman, ak chanm pwosesis nan koòdone ekipman Semiconductor (CVD, PVD, Etch, Epi) oswa lòt chanm vakyòm.

HENGKO-Aerasyon wòch pwodiksyon pwosesis -DSC 6924